光學薄膜+光罩缺陷檢查機
Pellicle + Mask Inspection System


總覽

為何需要Pellicle+Mask Inspection System

主要是因為光學薄膜(Pellicle)在半導體製造和其他光學應用中扮演關鍵的角色,
其品質直接影響到最終產品的性能和可靠性。


各層別檢測

此機種針對光罩及Pellicle的各個層別進行詳細檢測,
確保每一層的品質皆符合標準,如下圖ABCD皆有檢測。





Pellicle 檢測面示意圖
Pellicle 檢查機外觀預覽