Pellicle+Mask Inspection System


總覽

為何需要Pellicle+Mask Inspection System

主要是因為光學薄膜(Pellicle)在半導體製造和其他光學應用中扮演關鍵的角色,其品質直接影響到最終產品的性能和可靠性。

  • 檢查項目比其他機種多
  • 節省人工,一機器多用效率快
  • 檢測項目有光學薄膜(Pellicle)與光罩(mask)
  • 軟體自主開發,無須擔心售後服務

檢測能力

常見各類型檢測項目一應俱全,持續升級程式能力,使用者操作更輕鬆。

  • 汙點
  • 毛屑
  • 灰塵
  • 破損
  • 指紋
  • Mask 的圖形檢測 (如:Open/Short、針孔、汙點、刮傷等)

特色功能

軟體自主開發,操作簡單,檢驗項目多且強大,售後服務優質。

  • 可檢查Pellicle表面及內部的灰塵,也可檢測光罩表面及背面的髒汙。
  • TSL-PEL-REF機種還可以針對光罩圖形做檢測
  • 設備內具有自動送料的系統,放入Mask Package Box即可,減少汙染及損傷
  • 最大可放置12吋光罩盒,如有需要更大可客製修改
  • 取像即是複檢畫面,完整呈現缺點樣貌

規格比較

為符合各種類型的客戶,我司開發多款機型供使用者挑選。

  • TSL-PEL-DRC機型:用於檢測Pellicle表面的灰塵/刮傷等
  • TSL-PEL-REF機型:用於檢測各層的灰塵/刮傷可檢查光罩上圖案破損、針孔..等